cvd?
Principle of cvd
High purity and quality deposition
Good economy and process control
A great variety of chemical compositions
High step coverage
Selective deposition
AdvantageS of CVD
Classification of CVD
Thermal(conventional) CVD
- Operating Temp. : 800 1200 ℃
- Mass Products
- High Purity Thin Film
- influenced by various factors
Metal-Organic CVD(MOCVD)
- Metal-Organic c
CVD(Chamical VaporDeposition)가 가장 널리 쓰이고 있다. CVD란 증착될 물질의 원자를 포함하고 있는 기체상태의 화합물을 이 기체가 반응을 일으킬 수 있는 환경을 갖는 반응실로 유입하여 화학적 반응에 의해 기판 표면 위에서 박막이나 에피층을 형성하는 것이다. 반응온도는 100 ~ 1200℃ 범위로 광범위하게
PE CVD
PE CVD공정은 Plasma etching 이 사용되기 이전부터 반도체 금속배선의 보호막인 SiN과 SiO2를 저온에서 증착할 수 있는 새로운 생성원으로 소개
PE CVD기술은 SiO2와 SiN 박막 형성 뿐만 아니라 최근에는 천이금속이나 천이금속 실리사이드 형성에도 널리 사용
PE CVD의 박막 형성 mechanism
Plasma 에서 이
Chemical Deposition
유체(액체, 기체) precursor(씌우고자 하는 층이 될 잠재 물질)는 고체 표면에서 화학적 변화를 일으켜, 고체 층을 만든다. 유체가 고체 표면을 둘러싸기 때문에 방향에 관계없이 증착은 모든 표면에서 일어난다. 따라서 chemical deposition 기술에 의한 박막은 표면 전체에 걸쳐 두께가 동일하다
Ⅰ. 서 론
최근 나노기술(nanotechnology)이 21세기를 선도해 나가는 과학기술로서 전자정보통신, 의약, 소재, 제조공정, 환경 및 에너지 등의 분야에서 신기술로 부각되었다. 이런 나노과학기술에서 각광을 받고 있는 재료 중의 하나가 바로 탄소나노튜브(Carbon nanotube;CNT)이다. CNT는 하나의
탄소가 다른
- 가장 보편화된 나노기술현재 인간이 가지고 있는 보편화된 기술 중 가장 미세한 구조물을 만들어내는 방법이 있다면 그것은 포토리소그래피일 것이다.포토리소그래피는 실제 전자집적회로> 제작에 사용되는 기술로써 그 원리는 다음과 같다.크롬층과 유리기판의 맨 위에 놓인 감광고분자 막 위에 레
. 개요
세라믹스 물질은 금속이나 고분자 재료와 비교하여 내열성, 내마모성, 내식성이 우수하고 비중이 낮으며 고온에서도 높은 강도를 유지하는 등 여러 장점이 있으나 세라믹스 고유의 취성 및 이에 따른 낮은 신뢰도 때문에 세라믹스를 구조재료로 실제 응용하는데 많은 제한이 있다. 특히 취성
4. 새로운 텔레비전의 등장 : HDTV(High Definition Television)란 무엇인가
50년간의 컬러에 비교될 만한 획기적인 변화가 지금 진행 중에 있다. '꿈의 TV'로 불리는 HD(high definition)TV의 등장이 바로 그것이다. 디지털 방송 시대로의 전환기인 지금 HDTV는 차세대 텔레비전 방식으로서 기존의 아날로그 방송 시스템